垂直晶體定向儀

簡(jiǎn)要描述：下一代垂直Laue晶體定向系統(tǒng)
有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學(xué)背反射Laue系統(tǒng)允許實(shí)時(shí)晶體定向，精度低至0.1度。
單晶的電光特性強(qiáng)烈依賴(lài)于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖案，從而能夠以?xún)?yōu)異的精度選擇正確的晶面。

產(chǎn)品型號(hào)： LAUESYS

所屬分類(lèi)：晶體定向儀

更新時(shí)間：2024-05-07

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從非線性光學(xué)到噴氣發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片和超導(dǎo)材料，單晶材料在新型器件中發(fā)揮著重要作用。高分辨率晶體定向系統(tǒng)是捕獲和分析各種晶體材料的Laue衍射圖案的理想工具。

使用專(zhuān)用軟件，可以快速準(zhǔn)確地測(cè)量單晶的取向

該系統(tǒng)在樣品上提供小于0.3mm的強(qiáng)X射線束。單晶的電光特性強(qiáng)烈依賴(lài)于晶體取向。

LAUE工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖，從中可以非常準(zhǔn)確地選擇正確的晶面切割。

主要功能

有垂直、水平和顆粒貼圖配置

即插即用緊湊型機(jī)柜系統(tǒng)-無(wú)需定制工作臺(tái)或額外服務(wù)

全自動(dòng)和電動(dòng)XYZ平臺(tái)和測(cè)角儀，可提供手動(dòng)選項(xiàng)

CCD背反射、高分辨率、高靈敏度x射線探測(cè)器

專(zhuān)有聚焦光學(xué)器件，提供較小的準(zhǔn)直光束尺寸

使用機(jī)載高分辨率觀察相機(jī)快速精確地對(duì)準(zhǔn)小晶體

用于精確和可重復(fù)樣品定位的距離測(cè)量工具

專(zhuān)門(mén)的Laue軟件用于全面控制、數(shù)據(jù)采集、處理和分析

高通量樣品篩選選項(xiàng)

垂直Laue配置

垂直Laue系統(tǒng)是最靈活的配置，它使用垂直光束路徑對(duì)隔離的多個(gè)晶體或多個(gè)感興趣的區(qū)域進(jìn)行高通量掃描。使用重力，樣品不需要粘附在平臺(tái)上，從而更容易安裝和定向晶體。光束尺寸小于200µm時(shí)，可容納亞毫米范圍的樣品和渦輪合金等較大部件。

水平Laue配置

Laue系統(tǒng)也可采用傳統(tǒng)的水平幾何形狀。水平Laue系統(tǒng)非常適合定向晶體進(jìn)行切割或快速掃描晶體以識(shí)別反射。

顆粒圖配置

一種垂直系統(tǒng)，具有特殊的相機(jī)、鏡頭、照明和繪圖軟件，用于測(cè)量每個(gè)顆粒的方向。Grain Map包括一個(gè)全電動(dòng)XYZ載物臺(tái)和角度計(jì)作為標(biāo)準(zhǔn)，非常適合于硅片的晶粒映射。